離子研磨儀
簡(jiǎn)要描述:SEMPREP SMART離子研磨儀配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。這款設(shè)備是用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔的理想選擇。離子加工可以改進(jìn)和清潔機(jī)械拋光的 SEM 樣品并為 EBSD 分析制備無(wú)損表面。該設(shè)備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質(zhì)量的樣品,例如在半導(dǎo)體測(cè)試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實(shí)現(xiàn)出色的效果。
產(chǎn)品型號(hào): SEMPREP SMART
所屬分類:臺(tái)式離子研磨拋光儀
更新時(shí)間:2024-09-20
廠商性質(zhì):其他
品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地 | 進(jìn)口 |
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產(chǎn)品新舊 | 全新 |
SEMPREP SMART 離子研磨儀
SEMPREP SMART離子研磨儀配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。這款設(shè)備是用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔的理想選擇。離子加工可以改進(jìn)和清潔機(jī)械拋光的 SEM 樣品并為 EBSD 分析制備無(wú)損表面。該設(shè)備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質(zhì)量的樣品,例如在半導(dǎo)體測(cè)試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實(shí)現(xiàn)出色的效果。
主要特點(diǎn):
• 先進(jìn)的離子槍設(shè)計(jì)和自動(dòng)化功能
• 新型用戶友好操作軟件:為用戶提供智能輔助
• 更精確的針閥:允許對(duì)氣流進(jìn)行精細(xì)調(diào)整
• 高精度可調(diào)性:用于精細(xì)調(diào)節(jié)操作
• 更長(zhǎng)壽命高真空傳感器
產(chǎn)品功能:
• 可選低能槍(LEG)
• 可選的新型 LN2 冷卻系統(tǒng)
• 可選真空轉(zhuǎn)移裝置 (VTU),用于在真空條件下取出樣品
• 獨(dú)立的對(duì)位樣品臺(tái):在進(jìn)行 90° 加工時(shí)用于精確樣品定位
技術(shù)參數(shù):
離子槍:
超高能量離子槍,最高可達(dá) 16 keV
樣品尺寸
截面樣品臺(tái)(可選 30°、90°樣品臺(tái)):
• 30°樣品臺(tái):最大尺寸16.4mm (長(zhǎng)) x 16mm (寬) x 3.1mm (厚)
• 90°樣品臺(tái):最大尺寸18.6mm (長(zhǎng)) x 16mm (寬) x 6mm (厚)
用于表面加工(EBSD)的平面樣品臺(tái),配有三種不同的頭部類型
• 平頭型:最大直徑 50mm x 4mm
• 標(biāo)準(zhǔn)型:最大直徑 32mm x 15mm
• 空心型:最大直徑 25mm x 23mm
樣品臺(tái)移動(dòng)
• 樣品傾斜角度:0° 至 30°,每 0.1° 連續(xù)可調(diào)
• 樣品旋轉(zhuǎn)角度調(diào)節(jié):360 可變速樣品旋轉(zhuǎn),角度速度可調(diào)
• 樣品加工擺角(搖擺):±10° 至 ±120°,每 5° 連續(xù)可調(diào)
樣品冷卻(可選)
液氮冷卻或 Peltier 冷卻
真空系統(tǒng)
無(wú)油隔膜泵和分子泵
氣體供應(yīng)系統(tǒng)
純度為 99.999% 的氬氣工作氣體,高精度針閥流量控制
分子泵
HiPace 80 Neo.
成像系統(tǒng)
500萬(wàn)像素CMOS相機(jī),具有圖像內(nèi)的測(cè)量功能
計(jì)算機(jī)控制
易于使用的圖形界面,自動(dòng)化離子槍操作和樣品臺(tái) 位置校準(zhǔn)
使用氬離子束進(jìn)行加工